GIGAPHOTON于今年8月份推出新型ArF干式光刻光源“GT45A”

引入最先辈的ArF浸没式光刻光源技巧，以知足用户的进一步需求

日本?木县小山市--(美国贸易资讯)--半导体光刻光源制造商GIGAPHOTON股份有限公司(总部：?木县小山市、董事长兼总经理：浦中低廉甜头)宣布，新型ArF干式光刻光源GT45A已于本年8月份上市。

在最先辈的半导体系体例造工艺中，技巧节点10/7nm(纳米)的微细工艺成为主流，往后经由过程引入EUV光源的面向7nm以下的微细化技巧将备受注目。另一方面，跟着IoT的普及，14-65nm等技巧成熟节点的需求将增长，估计可经由过程新投资来扩大年夜临盆才能和进级现有工厂进行应对。是以，须要进一步改进干式曝光装配，同时必须包管曝光装配的高临盆率和高运转率(Availability)。

GT45A经由过程应用临盆现场已引入的下述ArF浸没式光刻光源技巧，具备可以知足用户广泛需求的功能扩大性。
重要模块的寿命比以往产品进步50%，实现光源的更高运转，可以进步装配运转率。
最大年夜输出功率达到90W，可以进一步进步临盆率。
支撑4kHz~6kHz的反复频率，可以知足各类曝光机的请求，有助于进步曝光光学机能。

GIGAPHOTON董事长兼总经理浦中低廉甜头表示：“GT45A经由过程应用在开辟ArF浸没式光刻光源时培养的技巧，可以针对广泛的客户需求，供给基于最先辈技巧的最佳解决筹划。往后，GIGAPHOTON将持续供给知足客户需求的最佳功能，为半导体系体例造行业做出更大年夜的供献。”

GIGAPHOTON公司成立于2000年，作为一家激光器的供给商，自成立以来一向为全球的半导体临盆厂商供给有价值的解决筹划。GIGAPHOTON时刻以客户为中间，从产品研发到临盆、发卖及保护，为用户供给业界最高水准的支撑。更为具体的介绍请您拜访：https://www.gigaphoton.com/cs/

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